Foam in Van Loon II

12 oktober 2012 - 21 januari 2013

In 2005 en 2009 stelde Museum Van Loon haar kamers gastvrij open voor Foam Fotografie Museum Amsterdam dat recht tegenover het museum ligt. Omdat Foam in het najaar van 2012 wederom tijdelijk haar deuren sluit in verband met het inrichten van een grote overzichtstentoonstelling met werk van Diane Arbus is de Nederlandse fotograaf Daniëlle van Ark door Foam uitgenodigd om zich te laten inspireren door het huis van de familie Van Loon. Het resultaat is een bijzondere tentoonstelling Foam in Van Loon III, Daniëlle van Ark.

Status en afkomst, vergankelijkheid en sterfelijkheid zijn terugkerende thema’s in het werk van Van Ark. Door middel van fotografie en installaties toont zij in deze tentoonstelling werk waarin deze thema’s tot uiting komen, onder andere foto’s van handen van vrouwen met bijzondere juwelen. Ook onderzoekt zij haar eigen positie in deze thema’s.

Daniëlle van Ark (1974) woont en werkt in Amsterdam en studeerde aan de Koninklijke Academie van Beeldende Kunsten in Den Haag. Zij is resident aan de Rijksakademie voor Beeldende Kunsten 2012-2013. Zij ontving diverse nominaties waaronder het Steenbergen Stipendium, de Bouw in Beeld Prijs en in 2011 de Nationale Portret Prijs.

Van Ark brak internationaal door met haar serie For Art’s Sake (te zien in Foam in 2006), waarvoor zij klassenverschil, uiterlijke vertoning en houding van de New Yorkse kunstwereld heeft vastgelegd tijdens openingen en in galerieën in de wijk Chelsea.

Museum Van Loon is dagelijks geopend, behalve op dinsdag, van 11.00-17.00 uur.